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향후 더 확장 할 ALD 기술을위한 최적의 솔루션 제공

Tel의 첫 번째 반 배치 필름 형성 장치 인 스포츠 토토 사이트 추천 ™은 기존 ALD에 사용되는 시간-파이낸 유형과 다른 고유 한 필름 형성 방법을 사용하여 고품질 및 생산성을 달성했습니다. 6 개의 웨이퍼가 한 단계에 장착되어 있으며, 차폐 가스를 사용하여 원시 가스 및 반응 공간의 흡착을 분리하는 독특한 메커니즘으로, 스테이지를 회전시켜 하나의 ALD 사이클을 완료 할 수 있습니다. 최적의 가스 공급 및 공간을 만들어줌으로써 혁명 수를 동시에 증가시켜 높은 처리량을 달성하여 최첨단 공정의 대량 생산에 기여합니다.

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스포츠 토토 사이트 추천 ™은 전화기에서 첫 번째 반 배치 필름 증착 장치입니다. 6 개의 300mm 웨이퍼가 단계에 장착되고 ALD 공정의 한 사이클이 한 번의 혁명에서 완료되는 장치 개념을 기반으로, 시스템은 ALD 사이클로의 개혁 단계를 통합하여 저온 영역에서 개선 된 막 품질을 허용하며, 이는 기존의 ALD 막에 대한 최적의 막 응력 조정이었다. ALD 공정에서, 원자 수준에서의 필름 두께 제어는 반응성 가스의 충분한 흡착 및 산화에 의해 요구된다. 또한, 통합 된 개혁 단계를 통해 고품질 필름 형성 공정을 제공하면 누출 특성과 같은 장치 성능이 향상 될뿐만 아니라 필름 자체의 불균형 및 에칭 내성을 갖는 복잡한 형태에 높은 커버리지를 사용하는 3 차원 반도체 장치 구조의 안정적인 생산에 기여합니다. 스포츠 토토 사이트 추천 ™에 사용 된 독특한 플라즈마 장치 실드는 무대에서 고속 회전 웨이퍼를 손상시키지 않으면 서 균일 한 혈장 조사 및 균일 한 필름 품질을 달성합니다.

열 알드 산화물 (760 ℃)

DHF 에칭 금액 [NM]

시리즈 비교

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웨이퍼 크기 (mm)	300
가용성	new
챔버/시스템 당 웨이퍼	6/12wafer
프로세스 챔버	2CHAMBER
Reactor	열/플라즈마
기능	높은 단계 적용 범위, 고품질 필름, 높은 처리량, 응력 제어 성, 낮은 플라즈마 손상
프로세스	SIO₂, Sin, High-K
기판	si, soi