Tokyo Electron Limited

EUV 노출을 스포츠 토토 하는 법 초 미세 패터닝 프로세스를위한 Acrevia ™ 가스 클러스터 빔 장치의 진행중인 판매 통지

도쿄 전자 (Tel, Minato-Ku, Tokyo, President : Kawai Toshiki)는 EUV 노출을 사용하여 초산형 패터닝 프로세스를위한 가스 클러스터 빔 장치입니다.TM"를 발표하고 싶습니다. 출시됩니다.

Acrevia는 EUV 노출을 스포츠 토토 하는 법하여 매우 미세한 패터닝 공정에서 가스 클러스터 빔 (GCBS)을 스포츠 토토 하는 법하여 선 너비를 처리하고 모양을 수정하는 장치입니다. 우리의 고유 한 GCB 기술을 기반으로, 우리는 이전에 불가능했던 낮은 손상 처리를 달성하고 고객 장치의 소형화에 기여하고, 수익성을 개선하며, EUV 패턴 화 프로세스의 비용을 절감 할 수 있습니다. 이 장치는 EUV 노출 후 모든 각도에서 패턴으로 선형 빔을 조사하고 후속 에칭 처리를 통해 초기 선 너비 처리 및 모양 보정을 수행합니다. 또한, 당사의 독점 소프트웨어 기술인 LSP (위치 별 프로세싱)는 웨이퍼 표면에 빔을 방출하는 포인트를 스캔하여 임의의 처리 제어를 허용하는 새로운 메커니즘을 가지고 있습니다. 동시에, 패턴의 측벽에서 라인 엣지 거칠기 (LER)를 개선하여 노출 공정을 최적화하고 결함을 줄일 수있어 수율이 낮아질 수 있습니다.

도쿄 전자 DSS Bugm의 Ishida Hiroshi는 "높은 에칭 속도와 낮은 손상을위한 자체 기술을 보유한 Acrevia는 최첨단 패터닝의 추가 소형화 및 생산성을 극대화 할 것이며, 이는 점점 더 어려워지고 있습니다. 우리는 고객의 기대치를 초과하는 기술을 계속 개발하고 우리 장치의 진화에 기여할 것입니다."

*가스 클러스터 빔 : 가스 분자를 결합하고 클러스터링하는 동안 표면 손상을 줄이는 기술

Acrevia는 일본 및 기타 국가의 도쿄 전자 그룹의 등록 상표 또는 상표입니다.

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